Перейти на версию для слабовидящих
Размер шрифта
A A A
Цветовая схема
a
a
a
Изображения
Развернуть панель

КОМПЛЕКСЫ ДЛЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Мы поставляем системы для производства полупроводниковых подложек. Предлагаем инновационные высокотехнологичные системы для полупроводниковой отрасли, от установок для производства кристаллов кремния до установок плазменной обработки при производстве полупроводников. 

 Установки для тигельного вытягивания полностью соответствуют необходимым условиям, которые выдвигаются в связи с высокими требованиями к качеству кристаллов и серийной производительности. 

В наших установках могут быть использованы следующие методы: 

  • метод Vertical Gradient Freeze (VGF) - кристалл выращивается в тигле за счет направленного отверждения за счет вертикальных перепадов температуры, этот процесс имеет ряд преимуществ, меньшая плотность дефектов, меньшие напряжения. Этот метод особенно хорошо подходит для выращивания кристаллов соединительных полупроводников, например GaAs и InP, но подходит и для производства германия или CaF2.
  • метод Чохральского (Czochralski). 
  • метод physical vapor transport (PVT) 
  • метод Chemical Vapor Deposition (CVD)